半导体抛光液

  抛光液是通过化学机械反应，去除半导体工件表面的氧化层，达到光洁度和高平坦要求的化学液体。半导体CMP抛光液是超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物，制备成均匀分散的悬浮液，起到研磨、润滑和腐蚀溶解等作用，主要原料包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等。

 东莞市晶晟新材料有限公司（简称“晶晟新材”），是一家为光显光电、精密光学玻璃冷加工提供抛光、研磨、清洗材料及服务的供应商。公司自成立以来涉及的产品系列有：氧化铈抛光粉、氧化铈抛光液，氧化锆抛光液、氧化铝抛光粉、氧化铝抛光液、环保清洗剂等，并可进一步代客量身定制更高要求的抛光辅料。